光學(xué)膜厚儀是利用薄膜干涉光學(xué)原理，對(duì)薄膜進(jìn)行厚度測(cè)量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面，探頭同位接收反射光線。光學(xué)膜厚儀根據(jù)反射回來的干涉光，用反復(fù)校準(zhǔn)的算法快速反演計(jì)算出薄膜的厚度。測(cè)量范圍1nm-3mm，可同時(shí)完成多層膜厚的測(cè)試。對(duì)于100nm以上的薄膜，還可以測(cè)量n和k值。
應(yīng)用領(lǐng)域：
半導(dǎo)體制造業(yè)，光刻膠、氧化物、硅或其他半導(dǎo)體膜層的厚度測(cè)量；
生物醫(yī)學(xué)原件：聚合物/聚對(duì)二甲苯；生物膜/球囊壁厚度；植入藥物涂層；
微電子：光刻膠；硅膜；氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡；
液晶顯示器：盒厚；聚酰亞胺；導(dǎo)電透明膜；
由于是光學(xué)測(cè)量，在測(cè)量時(shí)候無須擔(dān)心破壞樣品，讓用戶簡(jiǎn)單快速地測(cè)量薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)，通過對(duì)待測(cè)膜層的上下界面間反射光譜的分析，幾秒鐘內(nèi)就可測(cè)量結(jié)果。
1、非接觸式測(cè)量：光學(xué)膜厚儀采用的原理是通過光的反射原理對(duì)膜層厚度進(jìn)行測(cè)量，屬于非接觸式測(cè)量方法，不會(huì)對(duì)樣品造成任何損傷，能夠保證樣品的完整性。
2、測(cè)量數(shù)據(jù)多樣：可以測(cè)得物體的膜厚度和n，k數(shù)據(jù)，這是其它類型的膜厚儀所不具備的特點(diǎn)。
3、測(cè)量快速：光學(xué)膜厚儀的測(cè)量過程非?？焖?，因?yàn)樵撛O(shè)備采用了先進(jìn)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，能夠ji大程度的提升測(cè)量效率，相比于其他類型膜厚測(cè)量設(shè)備來說顯得非常輕巧方便。
4、適用范圍廣：光學(xué)膜厚儀的適用范圍非常廣泛，從普通家用到工廠的工業(yè)生產(chǎn)，再到大學(xué)實(shí)驗(yàn)室和科學(xué)研究所，都可以看到它的身影，由此可見它的使用范圍極其廣泛，能夠作業(yè)的場(chǎng)合也變得更加多樣化。
