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接近式光刻機(jī)在性能上都有哪些指標(biāo)?

更新時(shí)間:2022-05-12  |  點(diǎn)擊率:1436
  接近式光刻機(jī)又名:曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)、能源科學(xué)技術(shù)、電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器。其工作方式是通過(guò)光的作用,將掩模版上的電路圖形投影到產(chǎn)品表面光刻膠上,然后顯影出圖形,最后經(jīng)過(guò)蝕刻、離子植入等制程定型形成有效的電路。
 

 

  工作原理:
  接近式光刻機(jī)通過(guò)一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過(guò)畫(huà)著線(xiàn)路圖的掩模,經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差,將線(xiàn)路圖成比例縮小后映射到硅片上,不同光刻機(jī)的成像比例不同,有5:1,也有4:1。然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。
  一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經(jīng)過(guò)一次光刻的芯片可以繼續(xù)涂膠、曝光。越復(fù)雜的芯片,線(xiàn)路圖的層數(shù)越多,也需要更精密的曝光控制過(guò)程。現(xiàn)在先進(jìn)的芯片有30多層。
 
  性能指標(biāo):
  接近式光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有:支持基片的尺寸范圍,分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長(zhǎng)、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等。
  分辨率是對(duì)光刻工藝加工可以達(dá)到的最細(xì)線(xiàn)條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。
  對(duì)準(zhǔn)精度是在多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度。
  曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫(xiě)式。
  曝光光源波長(zhǎng)分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域,光源有汞燈,準(zhǔn)分子激光器等。
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