用戶是位于北京懷柔的實驗室，系guo家級新型科研事業(yè)單位，面向清潔低碳安全高效能源體系構(gòu)建和“碳達峰、碳中和”戰(zhàn)略目標，開展戰(zhàn)略性、前瞻性、基礎性的科學技術研究。

Thetametrisis膜厚測量儀設備主要應用于客戶某工藝階段的氧化物、光刻膠、半導體化合物等涂層厚度方面的測量。

ThetaMetrisis的核心技術是白光反射光譜（WLRS），它可以在從幾埃到毫米的超寬范圍內(nèi)準確測量堆疊薄膜和厚膜的厚度和折射率。

FR-μProbe顯微薄膜測量儀提供一站式解決方案，通過光學顯微鏡在各種模式下進行光學測量，如吸光度、透射率、反射率和熒光等。

FR-μProbe主要包含兩個光學組件：一個在顯微鏡支持的光譜范圍內(nèi)運行的光譜儀和一個安裝在三筒光學顯微鏡C-mount端口上的模塊。用于測量的光源來自光學顯微鏡本身。測量光斑的大小區(qū)域由所用物鏡的放大倍數(shù)定義。通常對于50X物鏡，測量區(qū)域是一個直徑約5μm的圓形。通過使用更高放大倍率或更小孔徑的物鏡，可以進一步縮小測量光斑。