當(dāng)前位置：首頁 > 技術(shù)文章
在半導(dǎo)體制造、光學(xué)薄膜研發(fā)及精密涂層檢測等領(lǐng)域，薄膜厚度與光學(xué)參數(shù)的精準(zhǔn)測量是保障產(chǎn)品質(zhì)量與性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。Thetametrisis薄膜厚度測量儀（如FR-Scanner系列）憑借其高度集成的光學(xué)模塊設(shè)計，成為這一領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備——其光學(xué)...
在現(xiàn)代精密測量領(lǐng)域，白光干涉儀猶如一雙超高分辨率的"電子眼"，能夠捕捉物質(zhì)表面微觀結(jié)構(gòu)的三維信息。這種基于光學(xué)干涉原理的儀器，以其亞納米級的測量精度，成為材料科學(xué)、精密制造和光學(xué)檢測等領(lǐng)域的重要工具。一、表面形貌的高清呈現(xiàn)白光干涉儀最核心的功能是三維表面形貌測量。它利用白光干涉原理，通過分析不同波長光的干涉條紋變化，可精確重建樣品表面的微觀形貌特征。測量分辨率可達(dá)0.1nm垂直精度和10nm水平分辨率，相當(dāng)于在足球場上識別出螞蟻的大小。在半導(dǎo)體芯片制造中，該技術(shù)可檢測晶圓表面...
在精密測量領(lǐng)域，電容式位移傳感器憑借其高靈敏度、抗干擾能力強(qiáng)等特點(diǎn)，成為工業(yè)自動化、精密制造等領(lǐng)域的重要工具。本文將梳理電容式位移傳感器的典型類型及其主要應(yīng)用場景。一、變間隙型：微觀位移的高精度捕手1.工作原理：通過改變電容極板間距（d）實(shí)現(xiàn)測量，公式C=ε(A/d)表明，間距d的微小變化會引起電容顯著波動。2.典型應(yīng)用①半導(dǎo)體制造：檢測晶圓厚度（精度達(dá)±0.03nm）、芯片封裝過程中微小形變。②光學(xué)鏡頭調(diào)焦：實(shí)時監(jiān)測鏡頭組件的位移量（0.01μm級），確保成像...
在精密測量領(lǐng)域，電容式位移傳感器如同微觀世界的"電子尺"，通過檢測電容極板間距離變化實(shí)現(xiàn)高精度測量。這種傳感器以特殊的電容調(diào)諧原理，構(gòu)建起從微米到納米級的測量范式，其精度可達(dá)頭發(fā)絲直徑的千分之一。一、距離變化引發(fā)電容效應(yīng)電容式位移傳感器的核心原理基于平板電容器的結(jié)構(gòu)特性。由固定極板與可移動極板組成的電容單元，其電容量C=ε（A/d），其中ε為介質(zhì)介電常數(shù)，A為極板正對面積，d為板間距。當(dāng)移動極板與固定極板間距d改變0.01μm時，在30pF基準(zhǔn)電容下，輸出電容變化量ΔC可達(dá)1...
在半導(dǎo)體制造與微電子加工領(lǐng)域，光刻膠作為圖形轉(zhuǎn)移的核心材料，其性能直接決定了芯片的分辨率、良率與制造成本。光刻膠測量技術(shù)通過精準(zhǔn)評估其厚度、粘附性、對比度等關(guān)鍵參數(shù)，成為工藝優(yōu)化與質(zhì)量控制的核心環(huán)節(jié)。本文將從測量精度、穩(wěn)定性與可靠性三大維度深入剖析光刻膠測量性能，并結(jié)合實(shí)際案例揭示其在行業(yè)中的戰(zhàn)略價值。一、測量性能的核心維度1.精度：納米級分辨率的基石光刻膠厚度測量需達(dá)到亞納米級精度。例如，在7nm制程中，光刻膠厚度波動超過1nm即可能導(dǎo)致線寬偏差，進(jìn)而影響芯片性能。采用FR...
勻膠機(jī)通過高速旋轉(zhuǎn)基底產(chǎn)生的離心力，實(shí)現(xiàn)了膠體溶液在微納結(jié)構(gòu)表面的均勻涂覆，在微陣列電極制備與生物分子功能化中展現(xiàn)出價值。在微陣列電極領(lǐng)域，勻膠機(jī)可精確控制導(dǎo)電聚合物、水凝膠等材料的成膜厚度與均勻性。例如，在制備微陣列化水凝膠電極時，勻膠機(jī)將水凝膠前驅(qū)液均勻鋪展在微陣列硅片基底上，結(jié)合真空干燥與退火處理，可顯著降低水凝膠與基底間的結(jié)合力，從而獲得規(guī)則、完整的微米級四棱柱狀或金字塔狀導(dǎo)電水凝膠陣列。這種結(jié)構(gòu)可提升電極的電化學(xué)活性表面積，增強(qiáng)HER（析氫反應(yīng)）與OER（析氧反應(yīng)）...