當(dāng)前位置：首頁 > 技術(shù)文章
在現(xiàn)代精密工程和科學(xué)研究中，主動隔振臺扮演著至關(guān)重要的角色。這種高科技設(shè)備通過精密的傳感器網(wǎng)絡(luò)和先進的控制算法，為精密儀器創(chuàng)造了一個近乎靜止的工作環(huán)境，使其能夠在納米尺度上進行精確操作和測量。主動隔振臺的核心在于其特殊的反饋控制機制。系統(tǒng)由...
在過去的40年，我們發(fā)展成為隔振臺的供應(yīng)商，并在此領(lǐng)域積累了豐富的經(jīng)驗。與此同時，測量技術(shù)有了很大的進步，一些靈敏的設(shè)備會受被動式隔振臺中低頻共振頻率的干擾，只有主動式隔振臺能消除此類干擾。因此，我們在被動式隔振臺產(chǎn)品之外，補充了由瑞士TableStableLtd.開發(fā)的先進主動式隔振臺。隔振臺的描述：調(diào)整腳，焊接鋼框架。1、薄膜空氣彈簧BiAi產(chǎn)處于框架和需要隔振的平臺之間（垂直固有頻率2.3Hz）2、機械氣動定位控制（精度土1/lOOmm或土1/lOmm）特點：1、固有振...
Thetametrisis膜厚測量儀用于氧化釔（Y?O?）涂層厚度測量。它可快速準確地繪制大型氧化鋁陶瓷圓盤上的抗等離子涂層Y?O?層厚度。下面我們來看看用Thetametrisis膜厚測量儀測量氧化釔（Y?O?）涂層厚度的具體情況。Thetametrisis膜厚測量儀測量氧化釔（Y?O?）的案例分析：氧化釔（Y?O?）是一種非常有前景抗等離子涂層材料，且在集成電路中特征尺寸的持續(xù)減小應(yīng)用在化學(xué)機械拋光后的高度平整工藝用作化學(xué)機械平面化（CMP）的磨料，具有獷泛的應(yīng)用范圍。氧...
硅片厚度測量儀是采用紅外干涉技術(shù)的一款測量儀器。它能夠精確測量硅片厚度和測量TTV總厚度變化，也能實時測量超薄晶圓厚度（掩膜過程中的晶圓），硅片厚度測試儀非常適合晶圓的研磨、蝕刻、沉淀等厚度測量應(yīng)用。硅片厚度測量儀具有突出優(yōu)勢，諸多材料例如Si、GaAs、InP、SiC、玻璃、石英以及其他聚合物在紅外光束下都是透明的，非常容易測量，標準的測量空間分辨率可達50微米，更小的測量點也可以做到。目前，儀器可廣泛用于MEMS、晶圓、電子器件、膜厚、激光打標雕刻等工序或器件的測量。該硅...
電容式位移傳感器基于平板電容原理。電容的兩極分別是傳感器和與之相對的被測物體。如果有穩(wěn)定交流電通過傳感器，輸出交流電的電壓會與傳感器到被測物體之間的距離成正比關(guān)系，從而可以通過測量電壓的變化得到距離信息。電容位移傳感器是一種非接觸電容式原理的精密測量儀器，具有一般非接觸式儀器所共有的無磨擦、無損磨特點外，還具有信噪比大，靈敏度高，零漂小，頻響寬，非線性小，精度穩(wěn)定性好，抗電磁干擾能力強和使用操作方便等優(yōu)點。實際應(yīng)用當(dāng)中電容式傳感器可以實現(xiàn)近乎的線性測量。但是，電容傳感器要求探...
顯微鏡秒變光刻機！--顯微鏡LED曝光單元電子顯微鏡和光刻機，兩個看上去風(fēng)馬牛不相及的東西，是如何結(jié)合到一起的？我們向您介紹一款無掩膜顯微鏡LED曝光單元UTA-3A-53M，能令顯微鏡秒變光刻機！該設(shè)備是一種具有高性價比的曝光裝置，其DLP固定在顯微鏡的三目鏡部分，而照相機則固定在目鏡部分。可以將專用程序產(chǎn)生的圖案投影并在顯微鏡下曝光在樣品上。＜特征＞?顯微鏡LED曝光單元UTA系列是用于光刻的無掩模圖案投影曝光設(shè)備。?使用金屬顯微鏡和LED光源DLP投影儀，將分辨率為幾μ...